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真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法

時間:2023-08-11 14:37:24 點擊:35次

依據電真空器材的結構特色及丈量精度要求,常用的有兩種檢漏辦法,即氦罩法和噴吹法(這兩種檢漏辦法具體介紹可見:氦罩法和噴吹法的氦質譜檢漏儀檢漏常見辦法)。檢漏時,先用氦罩法進行總漏率的測定,當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的精確認位。
  氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后,用一個充溢氦氣的查驗罩,把被檢件全體或部分的表面面包圍起來,如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內空氣排出再充氦,以確保罩內氦濃度盡可能挨近100百分之,被檢件上任何地方有走漏。
  檢漏儀都會有漏率值改變,顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續3~5倍檢漏儀呼應時刻。ASM192T2氦質譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率,不會漏掉任何一處漏點,但不能確認漏孔方位。
  噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連,對被檢件抽真空后用噴槍向可疑漏孔處吹噴氦氣。當有漏孔存在時,氦氣就經過漏孔進入質譜儀被檢測出,噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

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