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溫度是影響涂層性能優劣的一個重要工藝參數。沉積溫度過高，沉積速率過快，涂層組織呈粗大枝狀結晶，影響涂層的質量；而沉積溫度過低，也容易形成多孔、疏松的沉積物，降低與基體的結合強度。因此，合理選擇溫度是獲得厚度適中、顯微組織呈致密柱狀結晶的高質量涂層的必要條件。
二、化學成分
TiN涂層中N原子的相對含量對其性能有重要的影響，一般其硬度隨x值的增大而增加，韌性隨x值的增大而降低。當x<0.56時，其硬度隨x值增大而增大；當x>0.56時，硬度則隨x值增大而減小；彈性模量在x=0.6時約為610GPa，在x=1時約為540GPa，整體呈下降趨勢。在低荷載(10N)時，各組分涂層顯示出極好的摩擦學特性，摩擦系數和磨損量均很低，且隨組分的變化不大；但隨著荷載進一步增大，摩擦系數和磨損量都相應增大，且增大的幅度與涂層組分密切相關，一般隨N含量的增加而減少。
三、氣體配比
在制備TiN涂層時，反應氣體通常用CH4與N2，或者C2H2與N2的混合氣體。這兩種氣體之間的相對比例對TiN涂層性能有一定的影響。隨CH4：N2流量比的增大，涂層的硬度增大。隨著混合氣體中CH4比例的升高，TiCN涂層的硬度提高、耐磨性增強。并且，氮化鈦涂層的硬度隨著C2 H2:N2的增大而增大，隨著比值的進一步增大，硬度又逐漸減小。
四、涂層厚度
TiN涂層厚度對其硬度的影響極大，涂層太薄，在外力作用下涂層容易變形剝落；涂層太厚，則處于高的應力狀態，其抗變形、抗剝落能力將會下降，并且涂層容易變脆。通常單一硬質PVD或CVD涂層的厚度在1~10μm之間，多層涂層的單層厚度一般不超過5μm。
在TiN涂層制備過程中，影響涂層厚度的因素是多方面的，如在多弧離子鍍制備TiN涂層時，當工件與靶源的距離靠近涂層厚度將增大；隨著鍍層時間的延長涂層厚度將增大。通常在靶源數量、基體與靶源距離確定的情況下，可通過調整電弧電流及鍍層時間來獲得一定厚度的涂層。
